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等离子刻蚀机也被称为等离子蚀刻机、等离子平面蚀刻机、等离子蚀刻机、等离子外表处理机、等离子清洗体系等。等离子体蚀刻是枯燥蚀刻中常见的方式，其原理是暴露在电子区域的气体构成等离子体，它开释由此发生的电离气体和高能电子组成的气体，构成等离子体或离子，电离气体原子经过电场加快时，开释出满足的力，与外表驱赶力严密粘合或蚀刻外表。在某一些程度上，等离子清洗绝大多数都是等离子蚀刻的细微状况。履行干法蚀刻工艺的设备包含反响室、电源、真空部分。工件由真空泵提供给抽暇的反响室。气体被引进，与等离子体交流。等离子体在工件外表反响，反响的挥发性副产品由真空泵抽取。等离子蚀刻工艺其实是一种反响性等离子体工艺。近的开展是在反响室内部设置为架子方式，具有灵活性，用户都能够卸下架子，组成恰当的等离子体蚀刻办法(反响等离子体(RIE)、下流等离子体(downstream)、直接等离子体(direction plasma))。