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RIE-10NR是一种新式的低成本、高性能、全自动反应离子刻蚀体系，可以很好的满意非腐蚀性气体化学最严苛的工艺技术要求。 计算机化触摸屏为工艺配方编程和存储供给了用户友爱的界面。该体系能完成准确的侧壁概括操控和资料之间的高蚀刻挑选性。凭仗其油滑、紧凑的规划，RIE-10NR只需要很小的洁净室空间。
RIE-800iP是一种高性能ICP(电感耦合等离子体)蚀刻体系，它运用高密度等离子体来履行光电器材和电子元件所需的化合物半导体或介电膜蚀刻.
The RIE-400iP是一种高性能电感耦合等离子体(ICP)蚀刻体系，它运用高密度等离子体来履行光电器材和电子元件所需的化合物半导体蚀刻。
PlasmaPro 80是一种结构严密相连、小尺度且运用起来更快捷的直开式体系，可以给我们供给多种刻蚀和堆积的解决方案。 它易于放置，便于运用，且能保证工艺性能。直开式规划可完成快速晶圆装卸，是研讨和小批量出产的抱负挑选。 它经过优化的电极冷却和超卓的衬底温度操控来完成高质量的工艺。