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西方认为封闭高端芯片设备就能让我国停步。实际是，我国工程师用笨办法造出了5纳米芯片，打破了他们的高傲。林本坚的极限思想，让西方传统技能逻辑完全翻车。今日的半导体竞赛，谁还敢说“全部靠EUV”？
林本坚出生于1942年，在IBM干了22年，又在台积电担任研制。他终身专心于光的波长与光刻技能，当全职业都在烧钱追157纳米干式光刻时，他提出“滋润式光刻”，在镜头和晶圆之间参加一层水，把光波折射成更短的波长。
这个主意其时只要ASML信，尼康不信，成果ASML成为半导体设备霸主，尼康被甩在后面。林本坚从始至终坚持自己的判别，他着重工程实践远比理论评论重要。“你越封闭，我越逼着自己找到路。”这句话后来成为我国半导体打破的线年，他又提出“多重曝光”道路。EUV光刻机尽管先进，但价格高、依靠外部供给，封闭下底子不可靠。他指出：波长不行短，就多刻几回，每一次重复曝光都是向极限迫临。美国人不理解这种思路，认为没有EUV我国不可能做到5纳米。成果事实上，他们错了。
这一进程价值巨大：流片一次本钱约3亿块钱，良率仅50%。比较台积电90%的老练良率，这看似亏本，但生计逻辑不同。军用芯片、服务器芯片、高装备手机芯片，不是讲赢利，而是“有没有”的不同。我国市场巨大，哪怕良率低，也能把本钱摊平。
历史上，英特尔测验相似技能冲击10纳米项目失利。美国认为我国也做不到，但林本坚和中芯国际团队坚持下来了。成果，华为Mate60的麒麟9000S和中芯5纳米生产线相继验证了这一道路。美国SIA陈述不得不供认，我国在没有EUV的情况下完成5纳米量产，比预期快18个月。
对普通人而言，这在某种程度上预示着未来国产芯片能在高端设备上逐渐脱离依靠，信息安全和供给链安全有保证。对工业来说，这种“笨办法”的成功，为我国半导体供给了战略底气。对西方来说，这是一次深入警醒：单靠封闭和独占，不可能阻挠我国的技能自立。
5纳米芯片打破，不只打破西方技能迷信，也改变了全球半导体格式。曩昔的逻辑是“谁有EUV谁是老迈”，现在的逻辑是“谁能把现有设备用到极限，谁就把握话语权”。林本坚的思路和我国工程师的坚持告知国际：封闭只会催生立异，高傲会被实际打脸。