中微公司三季报中的两项严重技能打破：存储芯片用高端刻蚀机大规模量产多款薄膜设备功能到达世界先进水平

  2025年10月29日，中微公司（688012.SH）发布了2025年第三季度陈述。公司2025年前三季度（1-9月）经营收入为80.63亿元，同比添加约46.40%，归属于上市公司股东的纯利润是12.11亿元，较去年同期添加约32.66%，研制开销25.23亿元，较去年同期添加约63.44%，研制开销占公司营收份额约为31.29%。

  1、2025年前三季度经营收入添加46.40%下，毛利较上年添加约8.27亿元；

  2、因为商场对中微开发多种新设备的需求急剧添加，2025年公司显着加大研制力度，以赶快补短板，完成赶超，为持续添加打好根底。2025年前三季度公司研制开销较上年同期添加9.79亿元（添加约63.44%），研制开销占公司营收份额约为31.29%，远高于科创板均值；

  3、因为商场动摇，公司2025年前三季度计入非经常性损益的股权出资收益为3.29亿元，较上年同期添加约2.75亿元。

  值得一提的是，中微公司不只完成了成绩上的添加，在技能范畴，中微公司相同有严重打破。

  中微公司表明，公司针对先进逻辑和存储器材制作中要害刻蚀工艺的高端产品新增付运量显着提高，先进逻辑器材中段要害刻蚀工艺和先进存储器材的超深邃宽比刻蚀工艺完成大规模量产。其间CCP方面，公司用于要害刻蚀工艺的单反响台介质刻蚀产品坚持快速地添加，60比1超深邃宽比介质刻蚀设备成为国内标配设备，量产目标稳步提高，下一代90比1超深邃宽比介质刻蚀设备行将进入商场。

  本年前三季度，中微公司LPCVD和ALD等薄膜设备收入4.03亿元，同比添加约1332.69%。

  中微公司着重，公司为先进存储器材和逻辑器材开发的LPCVD、ALD等多款薄膜设备现已顺畅进入商场，而且设备功能彻底到达世界领先水平，薄膜设备的覆盖率不断添加。

  中微公司表明，ICP方面，适用于下一代逻辑和存储客户用ICP刻蚀设备和化学气相刻蚀设备开发取得了杰出发展。加工的精度和重复性已到达单原子水平。

  此外，公司硅和锗硅外延EPI设备已顺畅运付客户端进行量产验证，而且取得客户高度认可。在泛半导体设备范畴，公司正在开发更多化合物半导体外延设备，已连续付运至客户端展开出产验证。

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