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快科技11月3日音讯，EUV工艺是5nm节点之后无法绕过的先进工艺，EUV光刻机只要荷兰ASML能产，但日本在EUV光刻胶范畴很有优势，针对2nm及以下节点，日本三大化工巨子都在活跃扩产。 日本半导体材
快科技11月2日音讯，美国半导体草创企业Substrate近期抛出重磅音讯，声称已研宣告根据X光的新式曝光技能，其解析度能与荷兰ASML最先进的EUV光刻机对抗，而后者单台造价就超越4亿美元。 Substra
快科技11月1日音讯，前几天网络曝出台积电21年资深高管罗唯仁要换岗去Intel公司的音讯，尽管他现已于7月份从台积电退休，但此事仍然引发业界重视。 究其原因，便是罗唯仁尽管现已是75岁高龄，但
快科技9月29日音讯，半导体工艺越先进，对光刻机的需求就越高，5nm以下量产更少不了EUV光刻机，现在全球只要ASML公司能供给，台积电、三星、Intel等公司都会向他们下降。 那么这些巨子中谁具有
快科技9月8日音讯，EUV光刻机是制作5nm以下工艺的要害设备，相同重要的还有EUV光刻胶，现在无锡宣告国内首个把握EUV光刻胶核心技能的渠道启动了。 来自无锡政府网站的音讯，9月4日2025集成电路
快科技7月24日音讯，据清华大学官网介绍，日前，清华大学化学系许华平教授团队在极紫外（EUV）光刻资料上获得重要发展，开宣告一种根据聚碲氧烷的新式光刻胶，为先进半导体制作中的要害资料供给
快科技7月2日音讯，据新闻媒体报道，2023年底ASML向英特尔交付了首台High-NA EUV光刻机，业界共同以为，High-NA EUV光刻技能将在先进芯片开发和下一代处理器的出产中发挥要害作用。 不过这种状况最
快科技6月29日音讯，全球最大半导体设备龙头ASML已着手研制下一代Hyper NA EUV先进光刻机，为未来十年的芯片工业做准备。 Jos Benschop表明，ASML及独家光学合作伙伴蔡司（Carl Zeiss）正在研讨
快科技5月30日音讯，我们都知道，当下先进工艺（尤其是7nm以下），根本都依靠ASML的EUV极紫外光刻机。 依照传统认知，没有EUV就造不出先进工艺，那有无别的的方法呢。 前段时间，世界上就有一
快科技4月14日音讯，Intel上一任CEO帕特基辛格现已找到了新作业！自己亲身宣告，现已加盟xLight担任履行董事长。 xLight是一家半导体职业勇于探索商业模式的公司，主体事务室面向EUV极紫外光刻机，开发