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简要描述:
Nikon NSR-1755G7适用于分辨率不低于0.65μm的大规模集成电...
Nikon NSR-1755G7适用于分辨率不低于0.65μm的大规模集成电路工艺器材量产的G-line步进式光刻机。
Nikon NSR-I12大范围的应用于出产线英寸等主力I线出产机台,适用于I线光刻胶的曝光,简略易操作,曝光精度准,解析力Z高可达0.35UM (350NM)
Nikon步进式光刻机,大范围的应用于出产线,简略易操作,曝光精度准,解析力Z高可达0.35UM (350NM)
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半导体材料2025年展望:国产化率逐步提升并购频发提升行业地位
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